簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "化學工程系".dept (精準) and ckeyword.raw="表面復合速率"


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    1

    以原子層沉積法成長氧化鋁薄膜作為矽晶片鈍化層之研究
    • /101/ 碩士
    • 研究生: 廖國樺 指導教授: 洪儒生
    • 在矽晶太陽電池中晶片表面鈍化及抗光反射為重要的關鍵技術。本研究以原子層沉積法沉積氧化鋁薄膜於矽晶片表面上作為鈍化之使用。首先以電漿輔助原子層沉積系統及熱原子層沉積系統製備氧化鋁薄膜,研究重點為探討氧…
    • 點閱:239下載:1
    • 全文公開日期 2018/08/05 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

    2

    以非晶矽氧膜層作為矽晶異質接合鈍化層之程序探討
    • /100/ 碩士
    • 研究生: 李學銓 指導教授: 洪儒生
    • 異質接合太陽電池的高開路電壓特性取決於是否有良好的鈍化層,本論文研究以射頻電漿輔助化學氣相沉積系統(RF-PECVD)製備本質氫化非晶氧化矽薄膜用於鈍化n型單晶矽基材,研究重點為探討本質氫化非晶氧化…
    • 點閱:340下載:3
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